CIF實驗室型等離子清洗機CPC-F系列

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應用領域：

等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。

產品特點

◆ 7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面，自動控制監測工藝參數狀態，20 個配方程序，工藝數據可存儲追溯。

◆ PLC 控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。

◆ 用美國德威爾（Dwyer）氣體浮子流量計或質量流量計 (CPC-FM)，可輸入氧氣、氬氣、氮氣、氫氣或混合氣等氣體，氣體控制準確。

◆ 氣體返填吹掃，HEPA 高效過濾，防止二次污染。

◆ 316 不銹鋼、石英真空艙可選擇，全真空管路系統采用316 不銹鋼材質，耐腐蝕無污染。

◆ 采用 60 度傾角操作面板設計，符合人體功能學，操作方便，界面友好。

◆ 上控制下艙體結構設計，結構緊湊，占地空間小。

◆ 內凹式前面板設計，有效保護流量計和艙門不易損壞。

◆ 處理快速高效均勻，無污染，工藝重復性好。

◆ 樣品處理溫度低，無熱損傷和熱氧化。

◆ 安全保護，艙門打開，自動關閉電源。

技術參數

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