Spin?Processor
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CIF勻膠機轉速穩定、啟動迅速,旋涂均勻,操作簡單,結構緊湊實用,為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學,硅片、載玻片,晶片,基片,ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。
更新時間:2024-01-17 09:49:55
Spin Processor CIF勻膠機產品特點
v?采用閉環控制伺服電機,數字式增速信號反饋,速勻準確,壽命長,保證勻膠的均一性。
v?5寸全彩觸摸屏,智能程序化可編程操控顯示,標配10個勻膠梯度階段(速度和時間梯度設置),可選配10個可編程程序,每個程序下可設置10個勻膠梯度階段,z多100個階段。
v?內置水平校準裝置,保證旋涂均勻,可對大小不同規格的基片進行旋涂。
v?多重安全保護:
??電磁安全開關,蓋子打開卡盤停止,保證安全;
??蓋子自鎖功能,防止飛片蓋子彈開傷人;
??雙重安全上蓋,聚四氟嵌鑲鋼化玻璃,避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人,保證實驗人員安全。
v?樣品托盤卡口和樣品托盤之間三重密封安全保護,有效降低電機進膠的風險。
v?一機兩用,根據不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂方式。
v?符合人體功能學的水平取放樣品旋涂托盤設計,取放樣品方便。
v?不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體,旋涂腔體采用PTFE材料。旋涂托盤采用聚丙烯(NPP-H)材料,耐酸堿防腐蝕,保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。
v?上下雙腔體設計,較大的上腔體便于擦拭去除膠液,錐形下腔體結構設計便于收集膠液,并帶廢膠收集裝置
v?可選氮氣吹干、氮氣保護,自動滴膠或簡易滴膠裝置,提供多的操作便利性。
v?適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs,GaN,InP 等多種材料。
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Spin Processor CIF勻膠機技術參數
型號 | 轉速(轉/分) | 轉速穩定度 | 勻膠時間 | 旋涂基片尺寸mm | 外型尺寸(LxWxH)mm |
SC1 | 50-10000 | ±1% | 0-2000秒 | 圓片Φ5-Φ100,方片z大100x100 | 310x260x250 |
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